离子杀菌美肤装置

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种新型的离子杀菌美肤装置，包括电源及纹波发生电路、电极工作模块、数据采集模块、逻辑控制电路，还可包括键盘输入模块和LCD显示模块。其对自来水或者盐水进行电解，产生大量活性氧离子、氯离子，如将果蔬、衣物、用具等浸泡在离子水中，将起到消毒杀菌的作用，如将人或动物的皮肤浸泡在离子水中，除了起到消毒杀菌的目的之外，还将达到祛斑、祛除死皮、美白等目的。

基本信息

专利标题：

离子杀菌美肤装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620116331.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-05-25

授权号：

CN2899836Y

授权日：

2007-05-16

发明人：

章宇利

申请人：

章宇利

申请人地址：

100015北京市朝阳区芳园里28楼103号

代理机构：

北京天平专利商标代理有限公司

代理人：

张争艳

优先权：

CN200620116331.2

主分类号：

A61N1/44

IPC分类号：

A61N1/44 C25B1/00 C25B1/04 C25B1/26 A61L2/00 A45D44/00