光学成像系统及具有该光学成像系统的光学检测系统
专利权的终止
摘要
光学成像系统及光学检测系统,该光学成像系统包括:主机体,其内设置有点光源产生器、分光器,调焦系统、准直系统和图像显示器;光源系统,可替换地设置在主机体的一侧,来自光源系统的光束通过主机体进入点光源产生器;镜头,可替换地设置在主机体的与设置光源系统的侧面相邻或相对的一侧,来自点光源产生器的一部分光束通过分光器及镜头照射至被测面,另一部分光束通过分光器照射至参考面上,被测面反射的光束和参考面反射的光束沿原光路返回,通过分光器汇合,经由调焦系统进入成像装置;成像装置,可替换地设置在主机体的与设置光源系统的侧面相邻的另一侧。本实用新型通过模块化的组合设计来实现高精度、非接触、速度快、多功能的检测。
基本信息
专利标题 :
光学成像系统及具有该光学成像系统的光学检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620121304.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-06-12
授权号 :
CN2921828Y
授权日 :
2007-07-11
发明人 :
韩森
申请人 :
霍尔国际有限公司
申请人地址 :
美国亚利桑那州图桑市
代理机构 :
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 :
王玉双
优先权 :
CN200620121304.4
主分类号 :
G01N21/45
IPC分类号 :
G01N21/45 G01N21/88
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率;影响相位的性质,例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法,利用纹影方法
法律状态
2016-08-03 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101672705255
IPC(主分类) : G01N 21/45
专利号 : ZL2006201213044
申请日 : 20060612
授权公告日 : 20070711
终止日期 : 20150612
号牌文件序号 : 101672705255
IPC(主分类) : G01N 21/45
专利号 : ZL2006201213044
申请日 : 20060612
授权公告日 : 20070711
终止日期 : 20150612
2012-09-26 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101453732686
IPC(主分类) : G01N 21/45
专利号 : ZL2006201213044
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州维纳仪器有限责任公司
变更后权利人 : 苏州慧利仪器有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 215123 江苏省苏州市工业园仁爱路150第二教学楼B519室
变更后权利人 : 215123 江苏省苏州市工业园仁爱路150号
登记生效日 : 20120823
号牌文件序号 : 101453732686
IPC(主分类) : G01N 21/45
专利号 : ZL2006201213044
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州维纳仪器有限责任公司
变更后权利人 : 苏州慧利仪器有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 215123 江苏省苏州市工业园仁爱路150第二教学楼B519室
变更后权利人 : 215123 江苏省苏州市工业园仁爱路150号
登记生效日 : 20120823
2012-09-26 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101453732685
IPC(主分类) : G01N 21/45
专利号 : ZL2006201213044
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 霍尔国际有限公司
变更后权利人 : 苏州维纳仪器有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国亚利桑那州图桑市
变更后权利人 : 215123 江苏省苏州市工业园仁爱路150第二教学楼B519室
登记生效日 : 20120823
号牌文件序号 : 101453732685
IPC(主分类) : G01N 21/45
专利号 : ZL2006201213044
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 霍尔国际有限公司
变更后权利人 : 苏州维纳仪器有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国亚利桑那州图桑市
变更后权利人 : 215123 江苏省苏州市工业园仁爱路150第二教学楼B519室
登记生效日 : 20120823
2007-07-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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