一种侧向窄缝照光的双模式可变的目标成像观测装置
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
本实用新型公开了一种侧向窄缝照光的双模式可变的目标成像观测装置,包括透光板、暗箱、环形灯管、遮光板和漫反射板。暗箱内底面上安放可翻面用的漫反射板;暗箱上平面开有孔,孔中装有透光板;暗箱上平面的内侧面装有遮光板,环形灯管装在遮光板与暗箱上平面的内侧面之间,形成一个明亮的环形窄缝,将暗箱分隔成上明下暗的两个区域,使暗视野的背景更黑暗,加大了成像目标与背景的视觉差异。遮光板具有遮光控制特性,使成像照明的背景亮度波动量更小。本实用新型实现了暗视野悬浮模式的成像观测和立体背光模式的成像观测,结构简单。可更清晰地观测到半透明的细微生物体、各类种子等的形状、轮廓和细节,便于图象自动识别分析。
基本信息
专利标题 :
一种侧向窄缝照光的双模式可变的目标成像观测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620140184.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-11-24
授权号 :
CN201021953Y
授权日 :
2008-02-13
发明人 :
周平
申请人 :
浙江理工大学
申请人地址 :
310018浙江省杭州市江干区经济技术开发区白杨街道2号大街5号
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
林怀禹
优先权 :
CN200620140184.2
主分类号 :
G02B27/02
IPC分类号 :
G02B27/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/02
观看或阅读仪器
法律状态
2010-02-17 :
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2008-02-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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