用于聚合物高分子材料表面改性的装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开的用于聚合物高分子材料表面改性的装置,包括绝缘材料制的反应室,反应室的顶部具有杯口朝向大气的石英玻璃介质杯体,紧贴杯底置有一板式上电极,反应室中设有与上电极平行的下电极,下电极固定在加热器上,上电极与等离子体激发脉冲电源相连,下电极接地,加热器与反应室外的加热温控装置相连,化学气相沉积的供气系统及真空系统分别通过阀门与反应室相连通,供气管的喷嘴位于两上、下平行的电极之间。该装置结简单,且操作控制方便,采用该装置在聚合物高分子材料表面涂覆DLC薄膜,对聚合物高分子材料表面改性膜基结合牢固,最大膜基结合力达到40N。
基本信息
专利标题 :
用于聚合物高分子材料表面改性的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620140564.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-11-30
授权号 :
CN200996047Y
授权日 :
2007-12-26
发明人 :
张溪文李敏伟
申请人 :
浙江大学
申请人地址 :
310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
韩介梅
优先权 :
CN200620140564.6
主分类号 :
C23C16/513
IPC分类号 :
C23C16/513 C23C16/27
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/513
采用等离子流
法律状态
2011-02-16 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101037112137
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利号 : ZL2006201405646
申请日 : 20061130
授权公告日 : 20071226
终止日期 : 20091230
号牌文件序号 : 101037112137
IPC(主分类) : C23C 16/513
专利号 : ZL2006201405646
申请日 : 20061130
授权公告日 : 20071226
终止日期 : 20091230
2007-12-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载