透明膜及其制备方法、偏振片和图像显示装置
授权
摘要
本发明提供一种透明膜，其包括：透明支持体；和在所述透明支持体上的硬涂层，其中所述硬涂层是通过如下步骤获得的层：在透明支持体上涂布包含电离辐射可固化的化合物和至少一种活性卤素化合物的涂布组合物；干燥；和通过电离辐射照射硬化。
基本信息
专利标题 ：
透明膜及其制备方法、偏振片和图像显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101107542A
申请号 ：
CN200680002587.3
公开（公告）日 ：
2008-01-16
申请日 ：
2006-01-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
福重裕一井上力夫
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
于辉
优先权 ：
CN200680002587.3
主分类号 ：
G02B1/10
IPC分类号 ：
G02B1/10 G02B1/11 C08F2/50 G02B5/30 C08F290/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
2009-08-05 ：
授权
2008-03-05 ：
实质审查的生效
2008-01-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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