喷墨记录头、它的制备方法和喷墨记录头用组合物
专利权的终止
摘要
本发明提供喷墨记录头的制备方法,所述喷墨记录头具有高的耐久性和高的耐墨性并且通过采用能够降低内应力且具有令人满意的构图特征的材料而获得高质量的图象记录。还提供高精度地制备这种喷墨记录头的方法。包含可水解有机硅烷化合物的缩合物的阳离子可光致聚合的树脂组合物(用作形成流路形成构件的材料)能够在流路形成构件中实现内应力的降低和高精度的图案,从而提供具有高耐久性和高耐墨性并且能够长期高质量印刷的喷墨记录头。
基本信息
专利标题 :
喷墨记录头、它的制备方法和喷墨记录头用组合物
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101124519A
申请号 :
CN200680002853.2
公开(公告)日 :
2008-02-13
申请日 :
2006-01-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
桧野悦子大熊典夫斋藤义一野口光敏H·施密特C·贝克-韦林格P·卡尔梅斯
申请人 :
佳能株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
王健
优先权 :
CN200680002853.2
主分类号 :
G03F7/038
IPC分类号 :
G03F7/038 G03F7/075 B41J2/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/038
高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的
法律状态
2017-03-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101707181320
IPC(主分类) : G03F 7/038
专利号 : ZL2006800028532
申请日 : 20060120
授权公告日 : 20111130
终止日期 : 20160120
号牌文件序号 : 101707181320
IPC(主分类) : G03F 7/038
专利号 : ZL2006800028532
申请日 : 20060120
授权公告日 : 20111130
终止日期 : 20160120
2011-11-30 :
授权
2008-04-09 :
实质审查的生效
2008-02-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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