氧化锆增韧氧化铝成分及其在离子和电子光学系统中使用
授权
摘要
本发明提供一种离子光学系统，其包括用于电离一个或多个化合物的离子发生器，该离子发生器包括多个组件；用于分离该一个或多个化合物的离子的质量分离器，该质量分离器包括多个组件；以及用于识别该一个或多个化合物的检测器，该检测器包括多个组件。所述离子发生器、质量分离器和检测器中的至少一个中的多个组件中的至少一个组件包括氧化锆和氧化铝成分。
基本信息
专利标题 ：
氧化锆增韧氧化铝成分及其在离子和电子光学系统中使用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101120431A
申请号 ：
CN200680004140.X
公开（公告）日 ：
2008-02-06
申请日 ：
2006-02-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
罗萨里奥·曼尼诺朱塞普·科波拉
申请人 ：
珀金埃尔默LAS公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
马高平
优先权 ：
CN200680004140.X
主分类号 ：
H01J49/04
IPC分类号 ：
H01J49/04 C04B35/119
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J49/00
粒子分光仪或粒子分离管
H01J49/02
零部件
H01J49/04
导入或提取待分析试样的装置，如真空锁；电子光学或离子光学部件的外部调节装置
法律状态
2010-07-07 ：
授权
2008-04-02 ：
实质审查的生效
2008-02-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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