细粒状二氧化钛及其制造方法和用途
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摘要
二氧化钛，通过场致发射型扫描电子显微镜观察初级粒子而测得的最大粒径D最大与平均粒径D50之间的比率D最大/D50为1至3。该二氧化钛的制造方法包括进行使含四氯化钛的气体与氧化气体反应以产生二氧化钛的气相法，其中当通过将含四氯化钛的气体与氧化气体引入反应管而使每种气体反应时，反应管中的温度为1050至小于1300℃。
基本信息
专利标题 ：
细粒状二氧化钛及其制造方法和用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101124165A
申请号 ：
CN200680005537.0
公开（公告）日 ：
2008-02-13
申请日 ：
2006-02-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
鹿山进小古井久雄
申请人 ：
昭和电工株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
林柏楠
优先权 ：
CN200680005537.0
主分类号 ：
C01G23/07
IPC分类号 ：
C01G23/07 B01J35/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01G
含有不包含在C01D或C01F小类中之金属的化合物
C01G23/00
钛的化合物
C01G23/04
氧化物；氢氧化物
C01G23/047
二氧化钛
C01G23/07
用气相法生产，如卤化物的氧化
法律状态
2011-08-31 ：
授权
2008-04-09 ：
实质审查的生效
2008-02-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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