碘系偏光膜及其制造方法和使用该碘系偏光膜的偏光板
专利权的终止
摘要

本发明涉及一种偏光膜,其是将含有碘、碘化物、交联剂和/或耐水化剂的聚乙烯醇系树脂膜经拉伸处理后,再以含有不包括硼酸的无机酸或其盐和/或有机酸0.0001~5.0wt%的溶液处理,该溶液的pH值优选2≤pH≤5,更优选2.2≤pH≤5。所得偏光膜具优异的湿热耐久性,湿热耐久性试验中偏光特性也较少降低,更优选状态下所得的该偏光膜还具有优异的干热耐久性。

基本信息
专利标题 :
碘系偏光膜及其制造方法和使用该碘系偏光膜的偏光板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101137917A
申请号 :
CN200680007721.9
公开(公告)日 :
2008-03-05
申请日 :
2006-03-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
望月典明吉冈乾一郎田中兴一松下义昭
申请人 :
日本化药株式会社;宝来技术有限公司
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 :
樊卫民
优先权 :
CN200680007721.9
主分类号 :
G02B5/30
IPC分类号 :
G02B5/30  G02F1/1335  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2020-03-10 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 5/30
申请日 : 20060309
授权公告日 : 20091014
终止日期 : 20190309
2009-10-14 :
授权
2008-05-14 :
实质审查的生效
2008-03-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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