多层单元、电子终端以及多层单元的介质填充方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

多层单元的介质填充方法,用于对至少具有第一层及第二层的两层的多层单元填充介质,在所述第一层形成用于对该第一层填充第一介质的第一介质注入区域;在所述第二层形成用于对该第二层填充第二介质的第二介质注入区域,所述第二介质注入区域对应于与所述第一介质注入区域不同的区域;层叠所述第一层及第二层;形成第一贯通孔以及第二贯通孔,所述第一贯通孔在所述第一介质注入区域内,沿着层的厚度方向贯通所述多层单元,所述第二贯通孔在所述第二介质注入区域内,沿着层的厚度方向贯通所述多层单元;对所述第一及第二贯通孔分别注入所述第一及第二介质,以此向所述第一层及第二层填充该第一及第二介质。由此,在制造过程中发生劣化现象少,能够以更短的时间容易地制作多层单元。

基本信息
专利标题 :
多层单元、电子终端以及多层单元的介质填充方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101336390A
申请号 :
CN200680052250.3
公开(公告)日 :
2008-12-31
申请日 :
2006-02-03
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
黑崎义久富田顺二吉原敏明
申请人 :
富士通株式会社
申请人地址 :
日本神奈川县
代理机构 :
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 :
张龙哺
优先权 :
CN200680052250.3
主分类号 :
G02F1/1341
IPC分类号 :
G02F1/1341  G02F1/1347  G02F1/137  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/1341
•••••液晶单元的充料或封闭
法律状态
2011-01-26 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101063329772
IPC(主分类) : G02F 1/1341
专利申请号 : 2006800522503
公开日 : 20081231
2009-02-25 :
实质审查的生效
2008-12-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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