本实用新型涉及光刻胶的胶涂技术，具体为一种方片旋转涂胶机构，应用于掩膜板及平板显示器制造中方形基片涂光刻胶工艺，也可在其它要求较高均匀性的方形基片涂覆工艺中运用，解决传统旋转涂覆方式在涂胶过程中，方形基片的四角会出现胶膜不均匀而影响使用等问题。采用双层腔体结构，包括上盖、旋转盖板、承片台、外腔体，方形基片吸附于承片台上，承片台外侧设置外腔体，可升降的上盖底部安装旋转盖板；上盖扣在外腔体上，形成外层封闭腔体；旋转盖板扣在承片台上，形成内层封闭腔体。本实用新型可在涂覆光刻胶工艺中能够在方形基片上形成一层均匀的胶膜，除方形基片边缘2～3mm边框以外，整体均匀性很高。