本实用新型公开了一种上进上出的垂直喷淋式MOCVD反应器结构。其包括反应室、加热系统、喷淋头以及冷却水进、出口；其特征为：反应气体从位于顶部的许多密排小喷管喷入反应室，反应后的尾气又从位于顶部的许多小出口排出。进口和出口在顶部交叉排列。它使基片上方的反应气体浓度在每个喷管附近的小范围内呈周期性变化，从而可使薄膜沉积的厚度和杂质浓度沿径向的不均匀性大大减小，还可以取消复杂的基片旋转。