六氟化硫泄漏点定位系统
专利权的终止
摘要
一种六氟化硫泄漏点定位系统,包括光源发生装置,用于分别产生六氟化硫吸收谱对应波长范围和不同于六氟化硫吸收谱对应波长范围的两种光;图像采集装置,用于分别采集上述两种光扫描被测设备的测试区域生成的第一图像和第二图像。进一步地,所述光源发生装置包括一个用于产生所述两种光所对应波长范围的波长可调的激光器、以及位于所述两种光的光路上的扩束镜。进一步地,所述光源发生装置包括用于产生所述两种光所对应波长范围的两个激光器以及用于切换两种光的光路切换模块。本实用新型可以准确地对六氟化硫气体泄漏点进行定位,避免了对六氟化硫泄漏点的误判。
基本信息
专利标题 :
六氟化硫泄漏点定位系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720074554.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-09-11
授权号 :
CN201096720Y
授权日 :
2008-08-06
发明人 :
江斌依晓春涂建坤王建财沈奶连尹莹
申请人 :
上海电缆研究所;上海赛克力光电缆有限责任公司
申请人地址 :
200093上海市杨浦区军工路1000号
代理机构 :
上海光华专利事务所
代理人 :
余明伟
优先权 :
CN200720074554.1
主分类号 :
G01N21/31
IPC分类号 :
G01N21/31 G01N21/39
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色;光谱性质,即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/31
测试材料在特定元素或分子的特征波长下的相对效应,例如原子吸收光谱术
法律状态
2017-10-31 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : G01N 21/31
申请日 : 20070911
授权公告日 : 20080806
申请日 : 20070911
授权公告日 : 20080806
2008-08-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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