平衡减振精密定位装置
专利权的终止
摘要

本实用新型的平衡减振精密定位装置,主要由沿基台上下两侧对称设置的硅片台运动装置和反向平衡运动装置组成。硅片台运动装置设有硅片承载台及与硅片承载台相连接的第一受控运动单元,其能根据预先规划的运行行程使硅片承载台产生相应方向位移。反向平衡运动装置包含与承载台(包括被承载物体)的质量特性完全相同的模拟件,与该模拟件相连接且与第一受控运动单元相似的第二受控运动单元,以及镶嵌在基台内的动量轮运动单元。第一和第二受控运动单元分别在第一和第二控制单元的控制下做完全反相的运动,动量轮系统在第二控制单元的控制下完成力矩平衡运动。由此可实现系统力和力矩的精密平衡,降低了系统减振的难度,提高了系统的定位精度。

基本信息
专利标题 :
平衡减振精密定位装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720076164.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-11-14
授权号 :
CN201097108Y
授权日 :
2008-08-06
发明人 :
袁志扬
申请人 :
上海微电子装备有限公司
申请人地址 :
201203上海市张江高科技园区张东路1525号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200720076164.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  H01L21/68  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2017-12-26 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20071114
授权公告日 : 20080806
2008-08-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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