同介质二维声光Q开关
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及一种激光调Q开关，本实用新型公开了一种同介质二维声光Q开关，包括声光介质、吸声器、计算机，还包括纵波换能器、切变波换能器、LC匹配网络、高频插座、驱动电源、温控开关，所述计算机通过其同步信号与驱动电源连接，驱动电源与高频插座连接，高频插座与LC匹配网络连接，LC匹配网络与纵波换能器、切变波换能器连接，纵波换能器、切变波换能器与声光介质联接，温控开关与驱动电源连接。本实用新型调制损耗高，插入元件少，制造成本低，非常适合于高功率、高增益调Q激光器使用的声光Q开关。
基本信息
专利标题 ：
同介质二维声光Q开关
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720086823.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-09-05
授权号 ：
CN201118091Y
授权日 ：
2008-09-17
发明人 ：
陈文友程五四孙文
申请人 ：
武汉中谷电源设备有限公司
申请人地址 ：
430074湖北省武汉市东湖高新技术开发区关山二路
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200720086823.6
主分类号 ：
H01S3/117
IPC分类号 ：
H01S3/117
法律状态
2017-10-31 ：
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : H01S 3/117
申请日 : 20070905
授权公告日 : 20080917
申请日 : 20070905
授权公告日 : 20080917
2008-09-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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