高亮度匀光可调光斑投光装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
本实用新型公开了用于光学镀膜监控系统的一种高亮度匀光可调光斑投光装置,其中:在光源发射箱内设置有带聚光灯罩的卤钨灯具,箱体一侧通过支柱连接一带定速电机的调制器,调制器的输出光源端对应连接有聚光镜筒,镜筒内设有可以轴向移动调节的聚焦透镜组件。使用该投光器,不仅能够产生高亮度的强光源,而且调制光波输出稳定,可使匀光效果达到理想状态。并且光斑大小可调,既能保证光斑投射均匀一致,又能使其在远距离上得到均匀小光斑,而且光斑的光强较强。
基本信息
专利标题 :
高亮度匀光可调光斑投光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720089423.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-02-06
授权号 :
CN201012936Y
授权日 :
2008-01-30
发明人 :
赵升林党亚军菊池和夫
申请人 :
河南中光学集团有限公司
申请人地址 :
473003河南省南阳市工业路508号
代理机构 :
南阳市智博维创专利事务所
代理人 :
王帆
优先权 :
CN200720089423.0
主分类号 :
C23C14/54
IPC分类号 :
C23C14/54 C23C14/24 G05D5/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2008-12-10 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 20070206
2008-01-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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