用于膜组件的曝气装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
本实用新型公开了一种用于膜组件的曝气装置,旨在提供一种用于膜组件中以使气体在组件内部形成稳定的气流,膜清洗的效果好,并能延长膜丝使用寿命的且能进行双端产水的曝气装置。包括曝气本体,曝气本体内有集气室,曝气本体外侧连接有多个与集气室连通的封闭气室,每个气室上有多个曝气孔。曝气本体上部有集水室,在集水室内有多个出水孔,在曝气本体下端有多个进水孔,曝气本体上有连通进水孔与出水孔的水道。本实用新型的曝气装置使气体进入组件内部后,形成连续稳定的气流,使膜丝上下曝气均匀,清除污染效果好,保证组件连续稳定使用。而且气体上下分布均匀,膜丝上下受力一致,延长了膜丝使用寿命。
基本信息
专利标题 :
用于膜组件的曝气装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720097046.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-08-10
授权号 :
CN201089735Y
授权日 :
2008-07-23
发明人 :
苗蕾于鸿来安强王海涛吴静宇王龙兴
申请人 :
天津膜天膜科技有限公司
申请人地址 :
300457天津市经济技术开发区第11大街60号
代理机构 :
天津市三利专利商标代理有限公司
代理人 :
肖莉丽
优先权 :
CN200720097046.5
主分类号 :
C02F1/44
IPC分类号 :
C02F1/44 B01D65/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/44
渗析法、渗透法或反渗透法
法律状态
2010-01-27 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2007810
2008-07-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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