一种复合结构熔断器
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及防止电路中电流的过载和短路的保护电器技术领域,具体涉及一种复合结构熔断器。本实用新型要克服现有技术存在的自身散热慢,易产生非正常熔断现象的问题。为克服现有技术存在的问题,其解决方案是:一种复合结构熔断器,包括绝缘管、熔断片、石英砂填充腔和连接端子,连接端子内设置有密封件,所述石英砂填充腔的中部轴向设置有贯穿的通风管,通风管的两个端部穿过密封垫和连接端子,熔断片均布于通风管的外围石英砂中。本熔断器彻底改变了熔断器的传统结构,其内设置的通风管使其表面有效散热面积可以增加35%,长期持续通电,也会保持在恒定低温工作状态,使熔断器长期稳定保持70K以下的工作温度,杜绝超前的非正常熔断。
基本信息
专利标题 :
一种复合结构熔断器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720126493.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-11-23
授权号 :
CN201149843Y
授权日 :
2008-11-12
发明人 :
何可平何皓
申请人 :
西安西联电器有限责任公司
申请人地址 :
710002陕西省西安市青年二巷8号麒麟雅筑大厦2602室
代理机构 :
西安新思维专利商标事务所有限公司
代理人 :
黄秦芳
优先权 :
CN200720126493.9
主分类号 :
H01H85/04
IPC分类号 :
H01H85/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H85/00
电流通过其可熔材料的部分,当此电流过大时,由于可熔材料的熔断而使电流中断的保护装置
H01H85/02
零部件
H01H85/04
熔断器,即保护装置的易耗部分,如熔丝管
法律状态
2018-01-12 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01H 85/04
申请日 : 20071123
授权公告日 : 20081112
终止日期 : 20161123
申请日 : 20071123
授权公告日 : 20081112
终止日期 : 20161123
2012-06-27 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101387926806
IPC(主分类) : H01H 85/04
专利号 : ZL2007201264939
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 何可平
变更后权利人 : 西安西联电器有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 710018 陕西省西安经开区凤城六路151号后楼
变更后权利人 : 710021 陕西省西安经开区凤城六路151号后楼
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 何皓
变更后权利人 : 无
登记生效日 : 20120517
号牌文件序号 : 101387926806
IPC(主分类) : H01H 85/04
专利号 : ZL2007201264939
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 何可平
变更后权利人 : 西安西联电器有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 710018 陕西省西安经开区凤城六路151号后楼
变更后权利人 : 710021 陕西省西安经开区凤城六路151号后楼
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 何皓
变更后权利人 : 无
登记生效日 : 20120517
2011-07-27 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101117706745
IPC(主分类) : H01H 85/04
专利号 : ZL2007201264939
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 西安西联电器有限责任公司
变更后权利人 : 何可平
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 710002 陕西省西安市青年二巷8号麒麟雅筑大厦2602室
变更后权利人 : 710018 陕西省西安经开区凤城六路151号后楼
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 何皓
登记生效日 : 20110620
号牌文件序号 : 101117706745
IPC(主分类) : H01H 85/04
专利号 : ZL2007201264939
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 西安西联电器有限责任公司
变更后权利人 : 何可平
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 710002 陕西省西安市青年二巷8号麒麟雅筑大厦2602室
变更后权利人 : 710018 陕西省西安经开区凤城六路151号后楼
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 何皓
登记生效日 : 20110620
2008-11-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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