一种真空镀铝膜设备

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及一种电镀设备，尤其涉及一种真空镀铝膜设备。其包括蒸发源，所述的蒸发源包括感应电源和坩埚，在所述的坩埚外缠绕有感应线圈，感应线圈连接着感应电源；所述的感应电源包括由晶闸管和高频变压器、电容器组成的IGBT逆变器。本实用新型主要是提供了一种铝块可以在坩埚中充分熔炼与脱气，形成稳定蒸发源，消除了大熔滴的飞溅，而且蒸发量大，镀层均匀、速率高、针孔出现几率小的真空镀铝设备；解决现有技术所存在镀铝设备容易产生铝滴飞溅和针孔的技术问题。

基本信息

专利标题：

一种真空镀铝膜设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720133513.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-12-29

授权号：

CN201144277Y

授权日：

2008-11-05

发明人：

陈建权

申请人：

杭州晶鑫镀膜包装有限公司

申请人地址：

311200浙江省杭州市萧山区市心北路盈丰丰北村

代理机构：

杭州杭诚专利事务所有限公司

代理人：

俞润体

优先权：

CN200720133513.5

主分类号：

C23C14/26

IPC分类号：

C23C14/26 C23C14/14