双下胶圈张力架

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及一种纺织细纱机上使用的双下胶圈张力架，其结构包括有托架和张力辊，张力辊的中段卡接在托架凹槽里，两端向外伸出托架的侧边。本实用新型实现了在一个托架上支撑张紧两个胶圈的全新结构，更易于胶圈的清洁维护；在每一截拉杆上只需穿接三个下胶圈张力架，零部件用量减少，更换张力架的拆装操作步骤明显简化，工作效率提高。本实用新型还实现了胶圈与张力辊的滚动摩擦，既减低了张力辊的磨损程度，又提高了张力架和胶圈的使用寿命，节约了生产成本，有助于提高企业的经济效益。

基本信息

专利标题：

双下胶圈张力架

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720138179.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-12-10

授权号：

CN201136924Y

授权日：

2008-10-22

发明人：

刘永

申请人：

刘永

申请人地址：

073000河北省定州市定魏路恒宇机械科技有限公司

代理机构：

石家庄国域专利商标事务所有限公司

代理人：

胡澎

优先权：

CN200720138179.2

主分类号：

D01H5/86

IPC分类号：

D01H5/86