高效铝合金靶组件
专利权的终止
摘要
本实用新型是一种高效铝合金靶组件，包括内套管(1)，在该管外紧套有铝合金靶(2)，其特征在于：在所述内套管(1)外表面上设有过渡层(1a)，该过渡层(1a)是维氏硬度HV≤20的铅锡合金或铅铟合金，所述内套管(1)与铝合金靶(2)的装配过盈量为0.08～0.15mm。本实用新型装配容易，能够在长期使用中保持靶与内套管的紧密接触，实现良好的导电、导热功能；铝合金靶为同种材料靶，能得到组分均匀的溅射膜层。
基本信息
专利标题 ：
高效铝合金靶组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720188663.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-12-27
授权号 ：
CN201144279Y
授权日 ：
2008-11-05
发明人 ：
张先智吴文俊刘太贵张永红
申请人 ：
重庆跃进机械厂有限公司
申请人地址 ：
402160重庆市永川区化工路1号
代理机构 ：
重庆市前沿专利事务所
代理人 ：
郭云
优先权 ：
CN200720188663.6
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2018-01-23 ：
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20071227
授权公告日 : 20081105
申请日 : 20071227
授权公告日 : 20081105
2008-11-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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