提高喷吹清灰强度的大室大灰斗脉冲袋式除尘器
专利权的终止
摘要
本实用新型是提高喷吹清灰强度的大室大灰斗脉冲袋式除尘器,包括滤袋室和灰斗,在滤袋室内装有滤袋,其特征是:每个滤袋室都设置一个灰斗,每个滤袋室对应的滤袋的总过滤面积为1000~6000平方米。每个滤袋室的脉冲阀布置方式为双排布置,脉冲阀分两排布置在滤袋室的两边,或布置在滤袋室的中间。灰斗中装有斜板式导流板,斜板式导流板设置在与灰斗进气口相对的一侧。采用的滤袋长度为6~9米。本实用新型能提高喷吹清灰强度,增加单个滤袋室的滤袋过滤面积,增加灰斗容积,简化输灰系统,从而降低设备的钢材单耗,节省投资和设备占地面积,降低运行管理费用,提高整机作业率。同时采用改进的除尘器入口气流导流板,使进入滤袋室的气流更加均匀,避免滤袋的磨损,降低除尘器的阻力。
基本信息
专利标题 :
提高喷吹清灰强度的大室大灰斗脉冲袋式除尘器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820000090.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-03
授权号 :
CN201164772Y
授权日 :
2008-12-17
发明人 :
王纯俞非漉朱晓华姜凤有
申请人 :
中国京冶工程技术有限公司;中冶集团建筑研究总院
申请人地址 :
100088北京市海淀区西土城路33号
代理机构 :
北京金信立方知识产权代理有限公司
代理人 :
王鸿谋
优先权 :
CN200820000090.4
主分类号 :
B01D46/04
IPC分类号 :
B01D46/04
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D46/00
专门用于把弥散粒子从气体或蒸气中分离出来的经过改进的过滤器和过滤方法
B01D46/02
由挠性材料制成的空心滤器的粒子分离器,例如聚尘器
B01D46/04
清洗过滤器
法律状态
2018-01-26 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : B01D 46/04
申请日 : 20080103
授权公告日 : 20081217
申请日 : 20080103
授权公告日 : 20081217
2014-03-12 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101697094750
IPC(主分类) : B01D 46/04
专利号 : ZL2008200000904
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中国京冶工程技术有限公司
变更后权利人 : 中国京冶工程技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100088 北京市海淀区西土城路33号
变更后权利人 : 100088 北京市海淀区西土城路33号
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中冶建筑研究总院有限公司
变更后权利人 : 中冶建筑研究总院有限公司;中冶建研工程技术有限公司
登记生效日 : 20140211
号牌文件序号 : 101697094750
IPC(主分类) : B01D 46/04
专利号 : ZL2008200000904
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中国京冶工程技术有限公司
变更后权利人 : 中国京冶工程技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100088 北京市海淀区西土城路33号
变更后权利人 : 100088 北京市海淀区西土城路33号
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中冶建筑研究总院有限公司
变更后权利人 : 中冶建筑研究总院有限公司;中冶建研工程技术有限公司
登记生效日 : 20140211
2014-03-12 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101697094749
IPC(主分类) : B01D 46/04
专利号 : ZL2008200000904
变更事项 : 专利权人
变更前 : 中国京冶工程技术有限公司
变更后 : 中国京冶工程技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100088 北京市海淀区西土城路33号
变更后 : 100088 北京市海淀区西土城路33号
变更事项 : 专利权人
变更前 : 中冶集团建筑研究总院
变更后 : 中冶建筑研究总院有限公司
号牌文件序号 : 101697094749
IPC(主分类) : B01D 46/04
专利号 : ZL2008200000904
变更事项 : 专利权人
变更前 : 中国京冶工程技术有限公司
变更后 : 中国京冶工程技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100088 北京市海淀区西土城路33号
变更后 : 100088 北京市海淀区西土城路33号
变更事项 : 专利权人
变更前 : 中冶集团建筑研究总院
变更后 : 中冶建筑研究总院有限公司
2008-12-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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