线性滑块的滚柱回流装置

专利权的终止

摘要

一种线性滑块的滚柱回流装置，包括两个滚柱循环单元，每一滚柱循环单元分别包括一循环基轨、一回流盖及一侧盖，其中，循环基轨为一体成型几乎呈封闭状的长形环状体，包括一外直条部、一内直条部、一体连接于二直条部其中一端的一外回转部、一体连接于外直条部另一端的内回转部，该内回转部与内直条部之间具有一间隙，使内直条部可以扳开，将二滚柱循环单元的循环基轨垂直交叉，并且使任一循环基轨的内回转部位于另一循环基轨的外回转部内，另于内回转部及内直条部外侧分别以所述的回流盖、侧盖对合封闭，使滚柱组在滚柱槽内循环滚动，本实用新型单一循环基轨即可以形成完整的滚柱槽，其结构强度佳，并且可以减少滚柱滚动时的摩擦阻力。

基本信息

专利标题：

线性滑块的滚柱回流装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820003744.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-02-15

授权号：

CN201173249Y

授权日：

2008-12-31

发明人：

吴清山陈孟宜陈仁文

申请人：

鼎耀科技股份有限公司

申请人地址：

中国台湾台中县

代理机构：

中国商标专利事务所有限公司

代理人：

万学堂

优先权：

CN200820003744.9

主分类号：

F16C29/06

IPC分类号：

F16C29/06