湿制程水槽封盖密封结构
专利权的终止
摘要

本实用新型为一种湿制程水槽封盖密封结构,安装于一水槽的一清洁口上,以供设置一水槽封盖,其包含一间隔结构,该间隔结构可拆卸的设于该水槽的清洁口上,且该间隔结构设有一穿孔,又让该水槽封盖遮蔽该穿孔,并可拆卸的设于该间隔结构上,据此拆卸该间隔结构上的该水槽封盖,即可清洗该水槽,并该间隔结构可在磨损丧失密封性后直接更换,以增加该水槽的使用年限。

基本信息
专利标题 :
湿制程水槽封盖密封结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820005162.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-03-07
授权号 :
CN201177706Y
授权日 :
2009-01-07
发明人 :
李天立邱炳彰锺玉华
申请人 :
均豪精密工业股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新竹县宝山乡新竹科学工业园区创新一路5-1号4楼
代理机构 :
北京挺立专利事务所
代理人 :
叶树明
优先权 :
CN200820005162.4
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333  B08B3/08  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2018-03-30 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : G02F 1/1333
申请日 : 20080307
授权公告日 : 20090107
2009-01-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN201177706Y.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332