磨擦诱导式拔叉滚柱离合器

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种磨擦诱导式拔叉滚柱离合器，包括有驱动轴、拔叉架、磨擦片一、磨擦片二、圆环、滚柱、多边形楔块、及负载轴、定位销、磨擦驱动装置，所述的圆环置于所述的驱动轴内固定连接，所述的磨擦片一固定在所述的驱动轴的端面上；所述的多边形楔块置于所述的负载轴上呈传递扭矩连接，所述的拔叉架套在所述的多边形楔块上，所述的拔叉架上设有U形槽，所述的滚柱通过所述的U形槽外切于所述的多边形楔块；所述的磨擦片二套在负载轴上，通过定位销与拔叉架连接；操纵所述的磨擦片驱动装置，来改变滚柱与多边形楔块的相对位置，使圆环、滚柱、多边形楔块连接或分离，而达到离合的目的。

基本信息

专利标题：

磨擦诱导式拔叉滚柱离合器

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820007390.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-03-31

授权号：

CN201190743Y

授权日：

2009-02-04

发明人：

刘跃群

申请人：

刘跃群

申请人地址：

518057广东省深圳市南山区科技园31栋

代理机构：

北京邦信阳专利商标代理有限公司

代理人：

高之波

优先权：

CN200820007390.5

主分类号：

F16D41/066

IPC分类号：

F16D41/066