高位气水分体中、低位压控上水装置
专利权的终止
摘要

本实用新型提供一种高位气水分体中、低位压控上水装置,其结构是由高位气水分体组合配置和中位上水配置组成,高位低压储水箱顶端设有气水分离呼吸阀,下端设有人孔盖,人孔盖上方设置有水调质剂网筒,储能调节气罐上设有进出气接口、定压安全排气阀,底部设有泄放阀;中位上水装置设于自来水压力不足时能供到的中位层间,中位上水配置由积水箱、给水泵、压力控制器和配电箱组成,积水箱的上部分与下部分由法兰连接,积水箱上部分的下端设缺水保护探头。本装置可以在水管压力不够的情况下使住在高层的住户方便的用上自来水,本装置设计占地面积小,耗材投资低,节省运转能耗,控制可靠,因而,有着很好的推广使用价值。

基本信息
专利标题 :
高位气水分体中、低位压控上水装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820018601.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-03-10
授权号 :
CN201169795Y
授权日 :
2008-12-24
发明人 :
郭庆华尹成民郭文霞
申请人 :
郭庆华
申请人地址 :
277600山东省济南市长清区张夏镇井子坡107号
代理机构 :
济南信达专利事务所有限公司
代理人 :
姜明
优先权 :
CN200820018601.5
主分类号 :
E03B11/00
IPC分类号 :
E03B11/00  E03B11/06  E03B11/16  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E03
给水;排水
E03B
取水、集水或配水的装置或方法
E03B11/00
给水池的配置
法律状态
2011-05-18 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101071099077
IPC(主分类) : E03B 11/00
专利号 : ZL2008200186015
申请日 : 20080310
授权公告日 : 20081224
终止日期 : 20100310
2008-12-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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