一种匀光透镜及其系统
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种匀光透镜,其包括由梯度折射率透镜构成的梯度折射率透镜阵列,对激光进行均匀化处理,达到使激光光场均匀效果更好的目的。根据梯度折射率透镜的特性,本实用新型以梯度折射率透镜阵列的方式,对激光进行均匀化处理,可以达到良好的效果;且梯度折射率透镜技术成熟、生产加工相对简单,成本低,易于推广应用。

基本信息
专利标题 :
一种匀光透镜及其系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820029242.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-05-29
授权号 :
CN201199269Y
授权日 :
2009-02-25
发明人 :
孙建华
申请人 :
西安华科光电有限公司
申请人地址 :
710075陕西省西安市高新区锦业路67号
代理机构 :
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 :
商宇科
优先权 :
CN200820029242.3
主分类号 :
G02B3/08
IPC分类号 :
G02B3/08  G02B1/10  G02B27/09  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
G02B3/02
具有非球面的
G02B3/08
具有不连续面的,例如,菲涅耳透镜
法律状态
2015-07-22 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101617812802
IPC(主分类) : G02B 3/08
专利号 : ZL2008200292423
申请日 : 20080529
授权公告日 : 20090225
终止日期 : 20140529
2009-02-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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