新型大理石雕饰
专利权的终止
摘要
本实用新型是一种新型大理石雕饰。包括大理石基材(1)，在整个大理石基材(1)的表面上设有透明的保护层(2)，大理石基材(1)的表面雕刻着一组或多组构成完整图案的槽纹(3)，槽纹(3)内填充可以反射或折射光线的颗粒(4)，槽纹(3)以及槽纹(3)内的颗粒(4)均为保护层(2)覆盖。既能制成平滑的表面效果，又能制成凹凸的立体效果，通过反射或折射光线带来全新的视觉效果和审美享受，在任何大理石产品上均能任意实施，结构简单容易实施，而且经久耐用。
基本信息
专利标题 ：
新型大理石雕饰
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820044900.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-03-14
授权号 ：
CN201183426Y
授权日 ：
2009-01-21
发明人 ：
涂世学
申请人 ：
涂世学
申请人地址 ：
523000广东省东莞市沙田镇福禄沙工业区
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200820044900.6
主分类号 ：
B44C5/00
IPC分类号 ：
B44C5/00 B44C5/08 B44D7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B44
装饰艺术
B44C
产生装饰效果的工艺；镶嵌制品；镶木制品；裱糊
B44C5/00
制作特种装饰品的工艺
法律状态
2012-05-23 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101248910143
IPC(主分类) : B44C 5/00
专利号 : ZL2008200449006
申请日 : 20080314
授权公告日 : 20090121
终止日期 : 20110314
号牌文件序号 : 101248910143
IPC(主分类) : B44C 5/00
专利号 : ZL2008200449006
申请日 : 20080314
授权公告日 : 20090121
终止日期 : 20110314
2009-01-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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