双槽低倍组织电解酸蚀装置

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及双槽低倍组织电解酸蚀装置，该装置包括电控柜(1)、酸蚀器(2)，该酸蚀器(2)包括电解槽(3)、电解板(4)、卡槽(5)、电解槽上盖(6)、电解槽溢流管(7)、储液槽(8)、储液槽上盖(9)、连通管(10)、排液管(11)、排液孔(12)、泵(13)，所述的电解槽(3)设在储液槽(8)上方，电解槽(3)顶部两侧边缘设有放置电解板(4)的卡槽(5)，电解槽(3)底部设有排液孔(12)，该排液孔(12)通过带阀门的连通管(10)与储液槽(8)相连，所述的储液槽(8)底部一侧设有带阀门的排液管(11)。与现有技术相比，本实用新型具有重复性好、效率高、环保等特点。

基本信息

专利标题：

双槽低倍组织电解酸蚀装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820059531.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-06-10

授权号：

CN201220974Y

授权日：

2009-04-15

发明人：

章利球

申请人：

耐博检测技术(上海)有限公司

申请人地址：

201108上海市闵行区金都路4299号科技园区3号厂房1层

代理机构：

上海科盛知识产权代理有限公司

代理人：

赵志远

优先权：

CN200820059531.8

主分类号：

C25F3/02

IPC分类号：

C25F3/02