深沟型气升推流立体循环式整体合建氧化沟

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及一种深沟型气升推流立体循环式整体合建氧化沟，包括内设厌氧区，缺氧区，设有微孔曝气器组的好氧区及固液分离区的整体合建氧化沟，厌氧区在主沟前端，其特征是在厌氧区与主沟末端沟墙之间的沟体中下部设置了将主沟分为上下两层沟道且前后留有通道的水平隔板；好氧区设于上层沟道及主沟末端并设有n级(n≥1)由进、出水挡水墙及微孔曝气器组构成的下设进水口、上设出水口的曝气气升区；好氧区内设n级好氧反应区，固液分离区在厌氧区和第n级好氧反应区之间；下层沟道为缺氧区。本实用新型的优点是：创造良好的厌氧、缺氧、好氧、固液分离环境，提高总氮、总磷去除效果，出水水质良好，减少占地，降低建设及运行成本。

基本信息

专利标题：

深沟型气升推流立体循环式整体合建氧化沟

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820074684.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-05-07

授权号：

CN201236165Y

授权日：

2009-05-13

发明人：

居文钟李彦夏斌杰王德龙侯景树杨涛

申请人：

天津市天水环保设计工程有限公司

申请人地址：

300191天津市南开区育梁道9号水轩大厦2层

代理机构：

天津市三利专利商标代理有限公司

代理人：

王蕴华

优先权：

CN200820074684.X

主分类号：

C02F3/30

IPC分类号：

C02F3/30