静电吸附台

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种静电吸附台，包括：基台座、位于所述基台座上的基材层和位于所述基材层上用于吸附玻璃基板的电极层，在所述电极层上设置有用于保护电极层的保护层。其中，保护层可以为硅橡胶层、聚酰亚胺层，还可以在保护层和电极层之间设置一陶瓷层。本实用新型提供的静电吸附台，通过在ESC台上采用单保护层，或者增加一层陶瓷层，或者增加保护层的厚度，来增强保护层对ESC台上的电极层的保护，从而使得ESC台不易损坏，提高生产效率，并降低生产成本。

基本信息

专利标题：

静电吸附台

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820079141.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-02-21

授权号：

CN201156132Y

授权日：

2008-11-26

发明人：

朱海波魏永辉

申请人：

北京京东方光电科技有限公司

申请人地址：

100176北京市经济技术开发区西环中路8号

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司

代理人：

刘芳

优先权：

CN200820079141.7

主分类号：

G02F1/13

IPC分类号：

G02F1/13 H01L21/68

相关图片

IPC结构图谱

G部——物理

G02

光学

G02F

用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器

G02F1/00

控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学

G02F1/01

对强度、相位、偏振或颜色的控制

G02F1/13

基于液晶的，例如单位液晶显示单元

法律状态

2018-03-16 ：

专利权的终止

专利权有效期届满IPC(主分类) : G02F 1/13
申请日 : 20080221
授权公告日 : 20081126

2015-07-22 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101718187327
IPC(主分类) : G02F 1/13
专利号 : ZL2008200791417
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京京东方光电科技有限公司
变更后权利人 : 京东方科技集团股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100176 北京市经济技术开发区西环中路8号
变更后权利人 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 北京京东方光电科技有限公司
登记生效日 : 20150630

2008-11-26 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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