压制装置

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种压制装置，包括基座、工作体和清洗刷，工作体为多面体，在所述多面体一个侧面工作的同时对所述多面体其它侧面进行清洗的清洗刷设置在工作体的侧面。本实用新型通过将压制装置的工作体设置为可转动的多面体结构，在一个侧面工作的同时，其它侧面可以得到及时有效的清洗，不仅保证了实时有效的清洗效果，而且结构简单，操作可靠。

基本信息

专利标题：

压制装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820079375.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-03-13

授权号：

CN201159807Y

授权日：

2008-12-03

发明人：

王灿宋行宾李宗鑫

申请人：

北京京东方光电科技有限公司

申请人地址：

100176北京市经济技术开发区西环中路8号

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司

代理人：

刘芳

优先权：

CN200820079375.1

主分类号：

G02F1/13

IPC分类号：

G02F1/13 G02F1/1333

IPC结构图谱

G部——物理

G02

光学

G02F

用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器

G02F1/00

控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学

G02F1/01

对强度、相位、偏振或颜色的控制

G02F1/13

基于液晶的，例如单位液晶显示单元

法律状态

2018-04-06 ：

专利权的终止

专利权有效期届满IPC(主分类) : G02F 1/13
申请日 : 20080313
授权公告日 : 20081203

2015-07-22 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101718289626
IPC(主分类) : G02F 1/13
专利号 : ZL2008200793751
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京京东方光电科技有限公司
变更后权利人 : 京东方科技集团股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100176 北京市经济技术开发区西环中路8号
变更后权利人 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 北京京东方光电科技有限公司
登记生效日 : 20150701

2008-12-03 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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