一种纳米抗菌去污LOW-E中空玻璃
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种纳米抗菌去污LOW-E中空玻璃,包括上下叠合的两层玻璃基片,两层玻璃基片之间设有框形间隔条,框形间隔条与两层玻璃基片粘接,框形间隔条内形成封闭空间,所述的两层玻璃基片中至少有一层为低辐射玻璃,低辐射玻璃靠近间隔条的内表面为低辐射面,低辐射玻璃的外表面设有纳米TiO2涂镀层。本技术方案具有低辐射、抗污去污、抗菌灭菌等功能,同时具有制作简单、成本较低和适合工业化生产的优点。

基本信息
专利标题 :
一种纳米抗菌去污LOW-E中空玻璃
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820084346.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-03-14
授权号 :
CN201187226Y
授权日 :
2009-01-28
发明人 :
赵兴勇邵珠彬
申请人 :
浙江西溪玻璃有限公司
申请人地址 :
313200浙江省德清县莫干山经济开发区长虹街333号
代理机构 :
杭州丰禾专利事务所有限公司
代理人 :
王鹏举
优先权 :
CN200820084346.4
主分类号 :
E06B3/66
IPC分类号 :
E06B3/66  C03C17/23  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E06
一般门、窗、百叶窗或卷辊遮帘;梯子
E06B
在建筑物、车辆、围栏或类似围绕物的开口处用的固定式或移动式闭合装置,例如,门、窗、遮帘、栅门
E06B3/00
用于闭合开口的窗扇、门扇或类似构件;固定或活动式闭合器件的布置,例如窗户;用来安装翼扇框的刚性配置的外框
E06B3/66
两块或两块以上平行的玻璃或类似平板按一定间距构成一个整体件,该平板永久固定在一起,例如,沿边缘
法律状态
2015-05-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101608510300
IPC(主分类) : E06B 3/66
专利号 : ZL2008200843464
申请日 : 20080314
授权公告日 : 20090128
终止日期 : 20140314
2009-01-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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