二维光强方位传感器
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种二维光强方位传感器，它主要由光电池B1～B6、电阻R1～R6、两个对称双减法放大器、四个比较器、两个电机和减法放大器组成。本实用新型体积小，成本低，性能可靠，使用方便；采用全运放硬件电路，稳定性高；太阳光方位检测采用光强、温度补偿，提高了传感器的稳定性和灵敏度。
基本信息
专利标题 ：
二维光强方位传感器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820086522.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-04-30
授权号 ：
CN201188192Y
授权日 ：
2009-01-28
发明人 ：
潘玉良
申请人 ：
杭州电子科技大学
申请人地址 ：
310018浙江省杭州市江干区下沙高教园区2号大街
代理机构 ：
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 ：
周烽
优先权 ：
CN200820086522.8
主分类号 ：
G05D3/14
IPC分类号 ：
G05D3/14 G05B1/02 G01J1/44
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05D
非电变量的控制或调节系统
G05D3/00
位置或方向的控制
G05D3/12
使用反馈的
G05D3/14
使用模拟比较装置的
法律状态
2012-07-04 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101279909700
IPC(主分类) : G05D 3/14
专利号 : ZL2008200865228
申请日 : 20080430
授权公告日 : 20090128
终止日期 : 20110430
号牌文件序号 : 101279909700
IPC(主分类) : G05D 3/14
专利号 : ZL2008200865228
申请日 : 20080430
授权公告日 : 20090128
终止日期 : 20110430
2009-01-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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