一种低能电子加速器束下装置反应器
专利权的终止
摘要

一种低能电子加速器束下装置反应器,涉及辐照加工领域。包括内部设有溢流辐照槽1的回收槽2,回收槽2设有回收槽支架3,回收槽2底部设有出液管5,回收槽2底部设有供进液管4穿过的通孔,溢流辐照槽1底部设有进液管4,其特征在于:在溢流辐照槽1内设有通过支架7固定在进液管4管口正上方的液面稳定板6,液面稳定板6上设有过液孔8。本实用新型有效地避免被辐照流体的辐照液面上下波动和被辐照流体滞留,改善被辐照流体接受电子束的均衡性,避免被辐照流体因局部接受剂量过大而焦化,可以获得更好的辐照效果,产品结构简单,设计合理,成本低廉,效果明显。

基本信息
专利标题 :
一种低能电子加速器束下装置反应器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820107509.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-03-31
授权号 :
CN201174259Y
授权日 :
2008-12-31
发明人 :
朱南康钱卫平王洪杨明
申请人 :
苏州中核华东辐照有限公司
申请人地址 :
215200江苏省吴江市松陵镇北七里桥苏州中核华东辐照有限公司
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200820107509.6
主分类号 :
G21K5/00
IPC分类号 :
G21K5/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K5/00
照射装置
法律状态
2014-05-21 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101582359265
IPC(主分类) : G21K 5/00
专利号 : ZL2008201075096
申请日 : 20080331
授权公告日 : 20081231
终止日期 : 20130331
2008-12-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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