用于辐射装置的调节定位装置
避免重复授权放弃专利权
摘要

本实用新型公开了一种用于辐射装置的调节定位装置,包括:夹紧装置,所述夹紧装置可分离地连接到辐射装置上以夹紧所述辐射装置;支座,所述夹紧装置连接到所述支座上并且在其之间限定一滑动路径,其中夹紧所述辐射装置的所述夹紧装置可在预定方向上沿所述滑动路径移动;以及调节装置,所述调节装置与所述夹紧装置相结合,以驱动所述夹紧装置沿所述滑动路径移动。由于本实用新型采用了上述技术方案,可以方便地对辐射装置例如X光机的位置进行调节,从而能够实现对辐射装置的精确定位,并且能够获得满意的定位精度。

基本信息
专利标题 :
用于辐射装置的调节定位装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820108524.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-06-12
授权号 :
CN201229310Y
授权日 :
2009-04-29
发明人 :
赵自然李元景吴万龙李玉兰罗希雷桑斌郑志敏曹硕王海林
申请人 :
清华大学;同方威视技术股份有限公司
申请人地址 :
100084北京市海淀区清华大学
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
王新华
优先权 :
CN200820108524.2
主分类号 :
G01N23/04
IPC分类号 :
G01N23/04  G01N23/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2012-09-26 :
避免重复授权放弃专利权
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101453568843
IPC(主分类) : G01N 23/04
专利号 : ZL2008201085242
申请日 : 20080612
授权公告日 : 20090429
放弃生效日 : 20080612
2009-04-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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