一种降低单晶硅炉能耗的装置
专利权的终止
摘要
本实用新型属于一种降低单晶硅炉能耗的装置,采用在石英坩埚上端的炉膛内设有由导流内筒和导流外筒所组成的导流筒,在炉膛内保温层上端设有下保温盖,导流筒上端边与下保温盖内周边连成一体,下保温盖上端间隔距离设有上保温盖,上下保温盖之间的空间设有保温材料层,石墨电极周边与炉底护盘和石墨埚杆周边之间设有保温板。本实用新型能有效提高单晶硅炉的保温性能,可大幅度降低单晶硅炉的能耗,有提高硅晶质量,降低制作成本的优点。
基本信息
专利标题 :
一种降低单晶硅炉能耗的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820109321.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-07-18
授权号 :
CN201217710Y
授权日 :
2009-04-08
发明人 :
朱仁德刘旭峰
申请人 :
北京天能运通晶体技术有限公司
申请人地址 :
100034北京市西城区德胜门外大街11号C座3室
代理机构 :
北京汇泽知识产权代理有限公司
代理人 :
闫立德
优先权 :
CN200820109321.5
主分类号 :
C30B15/00
IPC分类号 :
C30B15/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
法律状态
2018-08-10 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : C30B 15/00
申请日 : 20080718
授权公告日 : 20090408
申请日 : 20080718
授权公告日 : 20090408
2012-09-05 :
文件的公告送达
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101451232340
IPC(主分类) : C30B 15/00
专利号 : ZL2008201093215
专利申请号 : 2008201093215
收件人 : 周玉新
文件名称 : 视为未提出通知书
号牌文件序号 : 101451232340
IPC(主分类) : C30B 15/00
专利号 : ZL2008201093215
专利申请号 : 2008201093215
收件人 : 周玉新
文件名称 : 视为未提出通知书
2009-04-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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