理线结构
专利权的终止
摘要

一种理线结构,用于收理电子装置的导线及排线,主要通过双层理线空间的设计,即通过下层的多个第一理线空间容置导线,而上层的第二理线空间则放置排线,且通过该排线的止挡作用而防止该导线向上跳出,以达到节省理线空间的效果。

基本信息
专利标题 :
理线结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820112217.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-05-28
授权号 :
CN201197240Y
授权日 :
2009-02-18
发明人 :
郭明亮萧丰能
申请人 :
英业达股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾台北市
代理机构 :
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 :
戈泊
优先权 :
CN200820112217.1
主分类号 :
H05K7/02
IPC分类号 :
H05K7/02  G06F1/18  
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法律状态
2014-07-23 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101583956655
IPC(主分类) : H05K 7/02
专利号 : ZL2008201122171
申请日 : 20080528
授权公告日 : 20090218
终止日期 : 20130528
2009-02-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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