硅片干燥用的气液混合恒温系统
专利权的终止
摘要

本实用新型一种硅片干燥用的气液混合恒温系统,主要包含一内槽、一第一液体注入装置,用以将液态异丙醇注入该内槽、一进气装置,用以将氮气注入该内槽、一排气装置,用以将异丙醇及氮气的混合气体排出该气液混合恒温系统、一外槽,与上述内槽具有一间距、一第二液体注入装置,用以将一第二液体注入该外槽、一温度调整装置,用以调整注入外槽的第二液体至一适当温度范围、以及一出水装置,用以将该第二液体排出该外槽。

基本信息
专利标题 :
硅片干燥用的气液混合恒温系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820113987.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-06-30
授权号 :
CN201256144Y
授权日 :
2009-06-10
发明人 :
谢宏亮许本谐冯传彰刘茂林
申请人 :
辛耘企业股份有限公司
申请人地址 :
台湾省新竹市
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
周国城
优先权 :
CN200820113987.8
主分类号 :
H01L21/00
IPC分类号 :
H01L21/00  F26B21/08  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2018-07-24 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : H01L 21/00
申请日 : 20080630
授权公告日 : 20090610
2009-06-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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