熔断器底座
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种熔断器底座，属于低压熔断器技术领域，为解决现有技术中熔断器底座分合闸时操作笨重的问题而设计。所述熔断器底座，包括壳体，所述壳体中部铰接有载熔件，所述载熔件上设有放置熔断件的腔体，在所述腔体两侧对应设置有熔断件插座；在所述熔断器底座的两侧分别设置有与所述熔断件插座相连接的接线座。本实用新型特别适用于需要短路保护的电路。
基本信息
专利标题 ：
熔断器底座
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820118752.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-06-04
授权号 ：
CN201307575Y
授权日 ：
2009-09-09
发明人 ：
翁国钱
申请人 ：
翁国钱
申请人地址 ：
325604浙江省乐清市柳市镇西仁宕村
代理机构 ：
北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人 ：
申 健
优先权 ：
CN200820118752.8
主分类号 ：
H01H85/20
IPC分类号 ：
H01H85/20 H01H85/22
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关；继电器；选择器；紧急保护装置
H01H85/00
电流通过其可熔材料的部分，当此电流过大时，由于可熔材料的熔断而使电流中断的保护装置
H01H85/02
零部件
H01H85/20
支持熔断器用底座；底座的可分离部件
法律状态
2012-08-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101305515529
IPC(主分类) : H01H 85/20
专利号 : ZL2008201187528
申请日 : 20080604
授权公告日 : 20090909
终止日期 : 20110604
号牌文件序号 : 101305515529
IPC(主分类) : H01H 85/20
专利号 : ZL2008201187528
申请日 : 20080604
授权公告日 : 20090909
终止日期 : 20110604
2009-09-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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