缓冲结构
专利权的终止
摘要
一种缓冲结构，应用于电子装置壳体的穿孔内，以避免盖合时直接冲击电子装置的其他部位，其中，该缓冲结构包括位于该螺丝孔内的缓冲主体、与该缓冲主体一体成形且位于该缓冲主体侧边的第一固定部、及用于嵌设该第一固定部而设于该穿孔内的第二固定部，从而解决现有技术的缺陷。
基本信息
专利标题 ：
缓冲结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820150848.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-07-16
授权号 ：
CN201274622Y
授权日 ：
2009-07-15
发明人 ：
杨国林萧丰能
申请人 ：
英顺达科技有限公司;英业达股份有限公司
申请人地址 ：
201114上海市漕河泾出口加工区浦星路699号
代理机构 ：
北京戈程知识产权代理有限公司
代理人 ：
程 伟
优先权 ：
CN200820150848.2
主分类号 ：
H05K5/02
IPC分类号 ：
H05K5/02 H05K7/00 F16F15/04 G06F1/16
法律状态
2013-09-04 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101515123093
IPC(主分类) : H05K 5/02
专利号 : ZL2008201508482
申请日 : 20080716
授权公告日 : 20090715
终止日期 : 20120716
号牌文件序号 : 101515123093
IPC(主分类) : H05K 5/02
专利号 : ZL2008201508482
申请日 : 20080716
授权公告日 : 20090715
终止日期 : 20120716
2009-07-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN201274622Y.PDF
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