一体式复合层匣钵
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种一体式复合层匣钵,包括匣底和匣墙,所述匣底和匣墙至少包括基层和位于所述基层的上面用于防止基层物质高温扩散至匣钵内产品的隔离层,并且,所述匣底的基层与所述匣墙的基层连为一体,所述匣底的隔离层与所述匣墙的隔离层连为一体,所述基层采用碳化硅(SiC)材料,所述隔离层采用无机氧化物材料。本实用新型将基层碳化硅材料由匣底部延伸至匣墙,增加了匣墙的强度,避免了匣钵在使用过程中易发生的“崩角”等匣墙破断、脱落现象,而通过在匣底和匣墙上合理设置伸缩缝,提高了匣钵的抗热震性,从而有效延长了匣钵使用寿命,提高了电子元件烧结时的成品率。

基本信息
专利标题 :
一体式复合层匣钵
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820208004.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-08-18
授权号 :
CN201297855Y
授权日 :
2009-08-26
发明人 :
曾世平
申请人 :
佛山宏鑫科技有限公司
申请人地址 :
528225广东省佛山市南海区狮山科技工业园C区恒兴中路5号
代理机构 :
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王月玲
优先权 :
CN200820208004.9
主分类号 :
F27D5/00
IPC分类号 :
F27D5/00  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D5/00
炉内装料的支架、屏板或类似装置
法律状态
2018-09-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : F27D 5/00
申请日 : 20080818
授权公告日 : 20090826
终止日期 : 20170818
2009-08-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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