一种气浮式反应腔

专利权的终止

摘要

本实用新型适用于化学反应的密闭空腔装置技术领域，提供了一种气浮式反应腔，包括一安装基座，所述安装基座上开设有倒锥形凹槽，所述倒锥形凹槽在安装基座下表面形成一反应源气环形集中喷覆口，其特征在于：所述安装基座上还开设有预压真空抽气口、静压空气轴承进气口，所述安装基座下表面对应开设有与所述预压真空抽气口贯通的预压真空节流口和与所述静压空气轴承进气口贯通的静压空气轴承节流喷嘴。与现有技术中的反应腔相比，本实用新型不需要增大反应腔的体积就可以修补大尺寸工件，降低了成本。

基本信息

专利标题：

一种气浮式反应腔

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820212007.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-09-24

授权号：

CN201236208Y

授权日：

2009-05-13

发明人：

林琳

申请人：

清溢精密光电(深圳)有限公司

申请人地址：

518057广东省深圳市高新技术工业区北区松坪山朗山二路8号

代理机构：

深圳中一专利商标事务所

代理人：

张全文

优先权：

CN200820212007.X

主分类号：

C23C16/48

IPC分类号：

C23C16/48 B01J19/12

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C16/00

通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺

C23C16/44

以镀覆方法为特征的

C23C16/48

辐射法，例如光分解、辐射分解、粒子辐射

法律状态

2018-10-23 ：

专利权的终止

专利权有效期届满IPC(主分类) : C23C 16/48
申请日 : 20080924
授权公告日 : 20090513

2010-12-22 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101055184666
IPC(主分类) : C23C 16/48
专利号 : ZL200820212007X
变更事项 : 专利权人
变更前 : 清溢精密光电(深圳)有限公司
变更后 : 深圳清溢光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518057 广东省深圳市高新技术工业区北区松坪山朗山二路8号
变更后 : 518057 广东省深圳市高新技术工业区北区松坪山朗山二路8号

2009-05-13 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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