涂胶显影单元工作臂的分控、交叉作业结构

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及涂胶显影单元工作臂的改进技术，具体为一种用以在半导体晶片上进行涂胶、显影的各工作臂的可分控作业及可交叉作业结构，解决涂胶、显影单元中实现工作臂的上下动作结构复杂，工作效率低等问题。涂胶单元或显影单元的基座一侧安装支承板，两个电缸I、电缸II上下平行安装在支承板外侧，涂胶单元或显影单元的两个工作臂分别固定在基座支承板外侧的上下两个电缸I、电缸II上。由于两臂的安装结构不存在运动干涉，利用电缸的作用可以进行独立、交叉的平行作业。这一独特功能的实用性在显影单元上体现的尤为明显，可以实现反复的显影、定影工艺过程。采用本实用新型可以缩短工艺单元的作业时间，为提高整体设备的产能打基础。

基本信息

专利标题：

涂胶显影单元工作臂的分控、交叉作业结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820218407.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-10-10

授权号：

CN201281803Y

授权日：

2009-07-29

发明人：

王阳

申请人：

沈阳芯源微电子设备有限公司

申请人地址：

110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号

代理机构：

沈阳科苑专利商标代理有限公司

代理人：

张志伟

优先权：

CN200820218407.1

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16 G03F7/30 G03F7/00 H01L21/027