进一步加工被纯化的羟基羧酸的方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要

本发明涉及一种进一步加工被纯化的羟基羧酸的方法,其包括:一种纯化羟基羧酸的连续方法,其包括:将羟基羧酸水溶液进行结晶纯化的结晶步骤、从滤液中分离羟基羧酸晶体的分离步骤、和用洗液洗涤所述羟基羧酸晶体以进一步纯化的洗涤步骤,从而获得被纯化的羟基羧酸,其中所述洗液为起始羟基羧酸水溶液,将与所述羟基羧酸晶体分离的一部分滤液排出系统,和将洗涤所述羟基羧酸晶体之后的洗涤滤液作为待进行所述结晶步骤的羟基羧酸水溶液再循环;将该羟基羧酸进行缩聚形成羟基羧酸的低聚物;以及使该低聚物解聚以形成作为所述羟基羧酸的二聚体的环酯。本发明的方法适合地用于进一步加工被纯化的羟基羧酸。

基本信息
专利标题 :
进一步加工被纯化的羟基羧酸的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN102295550A
申请号 :
CN201110135681.9
公开(公告)日 :
2011-12-28
申请日 :
2005-10-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
小川知幸星智广栉田勉大田原健太郎
申请人 :
株式会社吴羽
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京市中咨律师事务所
代理人 :
张蓉珺
优先权 :
CN201110135681.9
主分类号 :
C07C59/06
IPC分类号 :
C07C59/06  C07C51/43  C07D319/12  C08G63/78  C08G63/06  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C59/00
羧基连接在非环碳原子上的化合物,含羟基、氧-金属基、醛基、酮基、醚基、基、基或基中任何基团的化合物
C07C59/01
只有1个羧基和含有羟基或氧-金属基的饱和化合物
C07C59/06
羟基乙酸
法律状态
2016-03-09 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101728971130
IPC(主分类) : C07C 59/06
专利申请号 : 2011101356819
申请公布日 : 20111228
2012-02-15 :
实质审查的生效
号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101185311205
IPC(主分类) : C07C 59/06
专利申请号 : 2011101356819
申请日 : 20051017
2011-12-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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