二次电池用复合分离膜及其制备方法
授权
摘要
本发明涉及一种复合分离膜,所述复合分离膜包含:多孔性高分子基材;陶瓷层,其形成在多孔性高分子基材上;以及金属氧化物层,其通过原子层沉积法形成在陶瓷层及多孔性高分子基材上。所述复合分离膜作为二次电池用复合分离膜,具有显著的物理性质,并且使用所述复合分离膜的二次电池在性能、寿命及稳定性方面比现有的二次电池优异。
基本信息
专利标题 :
二次电池用复合分离膜及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN106159159A
申请号 :
CN201610323669.3
公开(公告)日 :
2016-11-23
申请日 :
2016-05-16
授权号 :
CN106159159B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
郭元燮刘鸿李济晏
申请人 :
SK新技术株式会社
申请人地址 :
韩国首尔
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
瞿卫军
优先权 :
CN201610323669.3
主分类号 :
H01M2/14
IPC分类号 :
H01M2/14 H01M2/16 H01M2/18 H01M10/0525
法律状态
2022-04-05 :
授权
2019-11-26 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : H01M 2/14
登记生效日 : 20191107
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : SK新技术株式会社
变更后权利人 : SK新技术株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国首尔
变更后权利人 : 韩国首尔
变更事项 : 申请人
变更后权利人 : 爱思开高新信息电子材料株式会社
登记生效日 : 20191107
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : SK新技术株式会社
变更后权利人 : SK新技术株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国首尔
变更后权利人 : 韩国首尔
变更事项 : 申请人
变更后权利人 : 爱思开高新信息电子材料株式会社
2018-06-05 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01M 2/14
申请日 : 20160516
申请日 : 20160516
2016-11-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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