用于处理陶瓷纤维的设备及方法

授权

摘要

本申请提供了用于处理陶瓷纤维用于制造陶瓷基质复合物(CMC)的方法及设备。一种方法可包括提供至少一个框架，其包括延伸横跨其空腔的单向陶瓷纤维的平面阵列。该方法还可包括经由化学气相沉积(CVD)过程将涂层沉积在至少一个框架的陶瓷纤维上。该方法还可包括以包括陶瓷基质前体成分的浆料浸渍涂覆的陶瓷纤维来形成至少一个CMC预浸料坯，如，预浸料坯带。例如，陶瓷纤维可大致为SiC纤维。

基本信息

专利标题：

用于处理陶瓷纤维的设备及方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN106957178A

申请号：

CN201611054124.3

公开（公告）日：

2017-07-18

申请日：

2016-11-25

授权号：

CN106957178B

授权日：

2022-06-07

发明人：

D.G.邓J.A.鲁德P-A.布伊G.S.科曼J.S.瓦图利

申请人：

通用电气公司

申请人地址：

美国纽约州

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

严志军

优先权：

CN201611054124.3

主分类号：

C04B35/80

IPC分类号：

C04B35/80 C04B41/87 C23C16/26 C23C16/32 C23C16/34