经贵金属涂覆的银纳米线、执行涂覆的方法和经稳定透明导电膜

授权

摘要

描述具有均匀贵金属涂层的金属纳米线。公开两种用于成功形成所述均匀贵金属涂层的方法，即电化交换和直接沉积。所述电化交换反应与所述直接沉积法都受益于包括适当强结合配体来控制或调节涂覆过程以形成均匀涂层。经贵金属涂覆的纳米线有效地用于制造稳定透明导电膜，其可包含熔融金属纳米结构化网状结构。

基本信息

专利标题：

经贵金属涂覆的银纳米线、执行涂覆的方法和经稳定透明导电膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN107851973A

申请号：

CN201680027045.5

公开（公告）日：

2018-03-27

申请日：

2016-03-29

授权号：

CN107851973B

授权日：

2022-04-05

发明人：

胡永星杨希强英熙·李A·S-I·洪M·M·伊诺耶曹亚栋A·维尔卡

申请人：

C3奈米有限公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司

代理人：

刘锋

优先权：

CN201680027045.5

主分类号：

H02B1/26

IPC分类号：

H02B1/26