用于毫秒退火系统的气体流动控制
授权
摘要
提供了用于热处理系统中的气体流动的系统和方法。在一些示例性实现方式中，毫秒退火系统的处理室内的气体流动模式可以通过实施如下方面中一者或更多者来改善：(1)改变气体注射入口喷嘴的方向、尺寸、位置、形状和布置或其组合；(2)使用晶片平板中的气体通道将毫秒退火系统的上室和下室连接；和/或(3)通过使用设置在半导体基板上方的衬板来减小处理室的有效体积。
基本信息
专利标题 ：
用于毫秒退火系统的气体流动控制
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108028214A
申请号 ：
CN201680054100.X
公开（公告）日 ：
2018-05-11
申请日 ：
2016-12-21
授权号 ：
CN108028214B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
克里斯蒂安·普法勒约瑟夫·西贝尔
申请人 ：
马特森技术有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
魏金霞
优先权 ：
CN201680054100.X
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/324
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2021-04-16 ：
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 21/67
变更事项 : 申请人
变更前 : 马特森技术有限公司
变更后 : 玛特森技术公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国加利福尼亚州
变更后 : 美国加利福尼亚州
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京屹唐半导体科技有限公司
变更后 : 北京屹唐半导体科技股份有限公司
变更事项 : 申请人
变更前 : 马特森技术有限公司
变更后 : 玛特森技术公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国加利福尼亚州
变更后 : 美国加利福尼亚州
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京屹唐半导体科技有限公司
变更后 : 北京屹唐半导体科技股份有限公司
2018-12-21 ：
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : H01L 21/67
登记生效日 : 20181204
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 马特森技术有限公司
变更后权利人 : 马特森技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国加利福尼亚州
变更后权利人 : 美国加利福尼亚州
变更事项 : 申请人
变更后权利人 : 北京屹唐半导体科技有限公司
登记生效日 : 20181204
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 马特森技术有限公司
变更后权利人 : 马特森技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国加利福尼亚州
变更后权利人 : 美国加利福尼亚州
变更事项 : 申请人
变更后权利人 : 北京屹唐半导体科技有限公司
2018-06-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20161221
申请日 : 20161221
2018-05-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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