用于监测和控制中央设施的系统以及方法
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摘要

一种用于监测和控制中央设施的系统包括高级别优化器、子设施监测器、用户界面以及调度图形用户界面(GUI)生成器。中央设施包括多个子设施,这些子设施被配置成为热能负载提供服务。高级别优化器被配置成针对多个子设施中的每个子设施确定推荐的子设施负载。子设施监测器被配置成监测中央设施且识别多个子设施中的每个子设施的实际负载。用户界面被配置成接收用户指定的手动子设施负载。调度GUI生成器被配置成生成调度GUI并通过用户界面呈现调度GUI。调度GUI包括推荐的子设施负载、实际子设施负载,以及手动子设施负载。

基本信息
专利标题 :
用于监测和控制中央设施的系统以及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN106997194A
申请号 :
CN201710045507.2
公开(公告)日 :
2017-08-01
申请日 :
2017-01-20
授权号 :
CN106997194B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
詹姆斯·P·库摩尔马修·J·阿斯穆斯麦克·J·文采尔卡罗尔·T·图梅丽萨·E·斯特兰德丹尼斯·J·弗洛德妮可·A·麦迪逊约瑟夫·P·卡莫迪彼得·A·金赛拉
申请人 :
江森自控科技公司
申请人地址 :
美国密歇根州
代理机构 :
上海脱颖律师事务所
代理人 :
脱颖
优先权 :
CN201710045507.2
主分类号 :
G05B19/418
IPC分类号 :
G05B19/418  F24F11/00  F28F27/00  G06F3/0484  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制;调节
G05B
一般的控制或调节系统;这种系统的功能单元;用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B19/00
程序控制系统
G05B19/02
电的
G05B19/418
全面工厂控制,即集中控制许多机器,例如直接或分布数字控制、柔性制造系统、集成制造系统、计算机集成制造
法律状态
2022-04-08 :
授权
2019-01-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G05B 19/418
申请日 : 20170120
2017-08-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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